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LEEM P90 NAP
发布日期: 2020-03-22  浏览次数:  
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产品介绍
  低能电子显微镜和光电子发射显微镜结合实空间信息和光谱信息,它是表征表面动态过程(如表面反应)的独特工具。标准LEEM/PEEM的压力范围只适用于真空,但固体/蒸汽和液体/蒸汽界面在自然界中无处不在,是重要应用的基础。因此,在近环境压力条件下的研究是理解这些界面过程的关键。近常压LEEM和PEEM (NAP -LEEM/PEEM)允许在纳米级的NAP条件下进行微观操作研究。

特点
 ● 工作压力从超高真空到近常压条件可达1mbar
 ● 样品温度高达1000℃
 ● 横向分辨率< 30nm
 ● 集成成像能量滤波器
 ● 冷场发射电子枪

用途
  近常压条件下研究表面低能电子成像和光发射电子成像,适用于表面催化原位表征等。

官网链接以及官网样品资料链接
https://www.specs-group.com/nc/specs/products/detail/fe-leempeem-p90-nap/
https://www.specs-group.com/fileadmin/user_upload/products/brochures/SPECS_Flyer_FE-LEEMPEEM-P90-NAP_RZ_web.pdf

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