产品介绍
　　近常压技术不是简单地将样品暴露于大气中，而是在气氛可控的环境下实现样品的表征。从超高真空过渡到近常压，近常压STM（NAP-STM）可以用来克服“压力鸿沟”，使研究内容更贴近实际情况，满足对能源与催化中的一些关键科学问题的研究需求。

　　传统SPM要想获得高分辨率图像，只能在超高真空中进行，来保持样品清洁以及针尖稳定性，但这也大大限制了SPM的可研究内容。NAP-SPM技术的出现，打破了真空模型研究与实际样品环境之间的界限，测试时压力值最高可到100mbar。

特点
　● 扫描范围达到1000 nm x 1000 nm；
　● 扫描头机械稳定性好于5 pm；
　● 扫描头横向飘移in UHV <0.05 nm/min (vert), <0.15 nm/min(lat) 。
　● 配有原位反应池，最高工作气压达到 100 mbar
　● 扫描隧道显微镜变温范围：220 K - 500°C in UHV, RT - 250°C at 10 mbar。
　● 可实现针尖离子溅射处理。

用途
　　NAP-SPM可以对各种近常压气氛下的表面进行表征，用于研究表面催化、薄膜生长等。

技术规格
　● 安装法兰 DN150CF
　● 温度稳定性：好于±2 K
　● 扫描范围1500 nm×1500 nm
　● 进针速度：可达 1mm/min
　● 温度范围： 150 K-1300K

官网链接以及官网样品资料链接
https://www.specs-group.com/nc/specs/products/detail/spm-aarhus-150-nap/